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超純水凈化
圖片說明：
過程簡述
在半導體產(chǎn)品制造過程中，由于生產(chǎn)設備的精密性和生產(chǎn)工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對作為半導體行業(yè)血脈的超純水系統(tǒng)更是高之又高。半導體行業(yè)超純水制造工藝可以概述為4個部分，分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分；在有些半導體廠中， 也有用“陰床+陽床”代替電去離子裝置的，主要根據(jù)原水水質(zhì)和產(chǎn)水水質(zhì)對弱電解質(zhì)的要求而定。
產(chǎn)品優(yōu)勢
避免傳統(tǒng)離子再生耗費的大量酸堿，對環(huán)境更友好；
克服傳統(tǒng)離子設備再生周期相對較長；
超濾反洗排水、一級RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施，利于節(jié)能減排；
節(jié)約水資源及半導體制造單位的運行成本。
產(chǎn)品應用
● 預處理部分
多介質(zhì)過濾器+活性炭過濾器
粗過濾器+超濾裝置
● 反滲透部分
反滲透膜
● 電去離子部分
EDI模塊和 CEDI模塊
● 拋光混床
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